首台國產商業電子束光刻機面市 精度達0.6納米
[2025.08.15] 發表
首台國產商業電子束光刻機近日投入市場，精度達到0.6納米，專攻量子晶片、新型半導體研發的核心環節，有望助力國產晶片研發製造突破國際封鎖。
《杭州日報》昨(14日)報道，浙江大學余杭量子研究院研發的100kV電子束光刻機「羲之」，性能媲美國際主流設備的同時價格低於國際平均水平。「羲之」的外觀酷似大型鋼櫃，研發團隊表示，「羲之」光刻機通過高能電子束在矽基上「手寫」電路，精度達到0.6納米、線寬8納米，可靈活修改設計而毋須掩膜版，適合晶片研發初期的反覆調試。
生產效率低 暫無法量產晶片
此類設備受國際出口管制，國內科研機構長期無法採購，「羲之」投入商用後有望打破困局，目前已有多間企業及科研機構與「羲之」團隊洽談。
報道形容，「羲之」進入應用，標誌着量子晶片研發從此有了「中國刻刀」。有分析指出，「羲之」採用的電子束光刻(EBL)技術精度高、成本較低，但生產效率遠不及極紫外光刻(EUV)技術，暫時僅適用於晶片科研、設計，無法用作晶片量產。
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