中國向荷購核心機器 助製納米級晶片

台積電計劃在7納米升級版上亦試用荷蘭阿斯麥生產的EUV極紫外光刻機（圖）。（網上圖片）

中美聯合聲明隻字未提在貿易摩擦中被美國制裁的中興通訊事件如何解決，不過因為中興事件喚起突破晶片技術封鎖的行動，卻在悄然進行，中國兩間公司分別向荷蘭訂購了兩台晶片生產的核心機器「光刻機」，其中一台近日已運抵武漢，另一台則在明年交貨。

內地cnBeta、環球網、快科技等報道，由北京清華大學紫光集團與國家集成電路產業投資基金、湖北科投等合資成立的長江存儲，是中國高端晶片聯盟發起單位之一，該公司耗資7200萬美元向荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購的一台光刻機已抵達武漢。而在香港上市、總部位於上海的中芯國際，據稱是中國規模最大、技術最先進的集成電路晶片製造企業之一，亦向阿斯麥訂購了一台價值高達1.2億美元的EUV(極紫外線)光刻機，日經亞洲評論(Nikkei Asian Review)早前報道，阿斯麥接受訂單正是4月中興遭美制裁之後，公司有關人士否認有「高端光刻機對中國禁運」的傳聞，強調對中國客戶一視同仁。這台機器預計將於2019年初交貨。

「每日經濟新聞」報道，EUV是目前世界上最昂貴也是最先進的晶片生產工具。小於5納米的晶片晶圓，目前只能用EUV光刻機生產。三星電子和台積電目前正競爭生產7納米工藝技術晶片，這兩家都訂購了阿斯麥公司的EUV光刻機。目前，蘋果iPhone X和iPhone 8系列的核心處理器晶片，採用的是台積電10納米工藝技術，而今年即將推出的新款iPhone將使用7納米工藝技術。

光刻機製5納米晶片 超越蘋果

自飛利浦獨立的阿斯麥公司在高端光刻機領域佔全球90%的市場份額。光刻機(又稱曝光機)是生產大規模集成電路的核心設備，其作用是掃描曝光晶片晶圓，刻蝕集成電路。精度愈高的光刻機，能生產出納米尺寸愈小，功能更強大的晶片。

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